Intel 7nm EUV推進順利 將于2020年底推出

　　原定2016年底量產的10nm拖到了2019年底，Intel目前僅在公開市場拿出Cannon Lake家族的i3-8121U撐住10nm的門面。可是它僅是雙核設計，甚至連核顯還給遮蔽了，足見產能的尷尬。

　　Intel的10nm之所以連續跳票，原因說來也簡單，即初期設定的制程目標過于激進。Intel的10nm仍然是借助193nm波長的DUV(深紫外)光刻機，導致要達到既定晶體管密度遇到極大困難，可是Intel又不愿在參數上放水(畢竟要踐行自己10nm等于臺積電7nm的“承諾”)，使得進度一拖再拖。

　　在參加納斯達克第39屆投資會議時，Intel首席工程官兼技術、系統架構和客戶端產品部分總裁Murthy Renduchintala透露，7nm項目是獨立的體系和團隊，目前的進展他非常滿意，在充分吸收10nm的教訓后，完全按照內部計劃演進。Murthy表示Intel的7nm采用EUV光刻技術，將重新在規模水平上兌現摩爾定律。

　　然而Intel的7nm一直很保密，AT(國外硬件評測媒體)猜測10nm 原計劃應該是在第四年推出，所以就是2020年底。消息屬實的話那么10nm就將是Intel最短命的一代制程。AT還估計Intel可能需要配置20~40臺ASML的7nm EUV光刻機來達到月產10萬片的能力。

　　PS：7nm EUV光刻機單臺售價1.2億美元(約8.25億人名幣)。

　　本文編輯：尹走召